2段階ワイプフィルム短経路分子蒸留

HXCHEM は、高濃度蒸留用の多段ワイプフィルム ショート パス エバポレーターを提供しており、バッチ操作と連続供給および排出の設計が可能です。スキッド フレーム ユニット設計により、設置の手間が省けます。容量は最大 0.1m2 ～ 2m2 で設計できます。 

このプラントは、1x 10m2の外部コンデンサーを備えた2段階の1m2ワイプフィルム蒸留プラントで、原料は高真空状態の薄膜によって非常に短時間で蒸留されます。高沸点および熱に敏感な材料の蒸留に適しています。蒸発器の湿潤部分の主な製造材料はステンレス鋼316Lです。蒸発器には2つの加熱吸引口があり、お客様はプロセス要件に応じて2つの吸引口に異なる温度を設定できます。残留物を排出するギアポンプの後にプレート型チラーを備えたプラントで、濃縮物を迅速に冷却します。

製品の特徴

• プロセス要件に基づいた多段蒸発器の設計。

• 加熱面積：0.05m2～2m2、10kg/時～100kg/時の生産が可能。
  

• 連続またはバッチ蒸留プロセスが利用可能で、真空を破壊する必要はありません。

• 溶融または粘性製品の個々のセクション（原料、残留物、留出物）のトレース加熱。

• スペ は、ホウケイ酸ガラス、ステンレス鋼、またはその他の特殊材料および合金で構築されています。

• 製品の特性に応じて異なるワイパーシステムが選択されます。

• 外部コンデンサーおよびコールドトラップ用の冷却ユニット。

• フロアスタンドまたは移動可能なカート設計。