実験室用ワイプフィルム蒸発装置

実験室のワイプドフィルム蒸発装置と薄膜蒸発装置は、円筒形の加熱ジャケットと内部の回転ワイパー システムで構成され、製品を加熱ジャケット上に薄い乱流フィルムとして分散させます。ワイプドフィルムの乱流により熱と質量の移動が増加し、短い滞留時間で高い蒸発速度が達成されます。多くの場合、これは 1 回の処理パス内で行われます。分離された蒸気は、外部の凝縮器で凝縮されるか、分留カラムでさらに分離されます。ワイプドフィルム蒸発装置と薄膜蒸発装置により、熱に敏感で汚れや粘性のある製品の取り扱いが可能になります。

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詳細

実験室薄膜蒸留/ ワイプフィルム蒸発装置


導入


実験室の薄膜蒸発器 (TFE) では、回転ワイパー システムが、加熱面の内側表面のフィルムに粗生成物を分配します。ワイピング システムは、生成物のフィルムを乱流状態に保ち、熱伝達と質量伝達が最適化されるようにすることで、蒸発プロセスを高速化します。蒸気は外部のコンデンサーで凝縮され、残留物は蒸発器の底から排出されます。


Thin film distillation  Laboratory wiped film evaporation system


1. このシステムはパイロット型単段薄膜蒸発装置であり、主な蒸発器の材質はステンレス鋼です。

2. この装置はジャケット加熱システムを採用しており、熱油循環加熱を採用し、最高温度は300℃です。供給および再結合排出システム(サイトグラス、ギアポンプ、排出サイフォンを含む)はジャケット設計になっており、高粘度材料にも対応できます。

3. この装置は、軽い材料と重い材料の供給と分離に3つのギアポンプを採用しています。ギアポンプは、材料を高真空から大気圧まで直接輸送することができ、高粘度材料(動作温度20000 cp)を輸送しながら、24時間停止することなく連続蒸留生産を実現できます。



蒸発面積

0.15平方メートル

処理能力

2~12kg/時

蒸発温度

30~350℃

無負荷時の最小真空度

5 さて

運転中(給餌後)の最小真空度

100Pa

処理可能な材料の最大粘度

20000mPas@動作温度中




製品の特徴



  • 高い熱伝達効率、速い蒸発速度、短い材料滞留時間。

  • 暖房面積:0.05m2、0.1m2、0.3m2、0.5m2からお選びいただけます。

  • バッチ式または連続式の蒸留プロセスが利用可能です。

  • 追加の蒸発段階(精留塔、脱ガス段階など)との組み合わせ

  • TFD は、ホウケイ酸ガラス、ステンレス鋼、またはその他の特殊材料および合金で作られています。

  • 製品の特性に応じて異なるワイパーシステムが選択されます。

  • ギア自動排出ポンプ


Lab thin film distillation

Thin film distillation

Laboratory wiped film evaporation system Lab thin film distillation


基本構成(TFD)




  • 供給システム(予熱・脱ガス工程を含む)

  • 薄膜蒸発器(TFE)

  • 外部コンデンサーとコールドトラップ

  • 留出液および残留物の収集システム

  • 暖房および冷房システム

  • 真空システム


Thin film distillation Laboratory wiped film evaporation system



Lab thin film distillation


応用




実験室用ワイプフィルム蒸発ユニット、実験室用薄膜蒸留、実験室用ワイプフィルム蒸発システム、実験室用薄膜蒸留、実験室用ワイプフィルム蒸留、実験室用ワイプフィルム蒸発。 ラボ用薄膜蒸発装置、ラボ用ワイプドフィルム蒸留装置、ラボ用薄膜蒸留装置、ワイプドフィルム蒸発装置 実験室での拭き取りフィルム蒸発; 当社のプロセスソリューションは、精製、濃縮、低沸点物質の除去、色の改善、製品の乾燥などに使用されます。 油、脂肪、食品、化学製品、農薬、医薬品、石油化学製品、ポリマー、香料、フレーバー、リサイクル材料。


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